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四氟密封失效的分子機理如何優(yōu)化?
返回列表 來源: 創(chuàng)始人 發(fā)布日期: 2025-02-17


通過分子尺度建模,揭示溫度交變導致PTFE密封界面微裂紋萌生的化學鍵重組規(guī)律。

仿真方法

1. 模型構(gòu)建:采用LAMMPS軟件建立PTFE分子鏈(-CF?-CF?-重復單元)與金屬法蘭面的接觸模型(COMPASS力場)。

2. 工況模擬:施加溫度循環(huán)載荷(25℃→300℃→-50℃→25℃,共10個周期),記錄主鏈鍵角分布、范德華力變化。

關(guān)鍵發(fā)現(xiàn)

· 鍵能退化:高溫段(300℃)下C-F鍵拉伸振動加劇,鍵能下降12%,導致分子鏈剛性降低;

· 低溫脆化-50℃PTFE自由體積減少35%,界面應(yīng)力集中系數(shù)達3.8,誘發(fā)微裂紋;

· 自修復現(xiàn)象:摻雜納米二氧化硅的PTFE在溫度恢復時,Si-O鍵優(yōu)先重組,裂紋擴展速率降低62%。

優(yōu)化建議

· 梯度摻雜:在密封界面?zhèn)仍O(shè)計5μm厚度的SiO?納米粒子梯度層(0→15wt%);

· 拓撲結(jié)構(gòu):引入交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)(電子束輻射處理),提升200℃以上抗蠕變能力。

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